GH60設備晶圓清潔
日期：2020-11-13 點擊數：
半導體科研單位客戶
要求：
1、設備適合千級無塵室環境要求
2、處理后水滴角在30°以下
3、處理后的芯片不能變色和損壞
難點：
1、功率不能過大、溫度控制要求高、處理時間不能過長
2、處理前后必須注意擺放動作及環境對芯片的影響
3、工藝方面使用的處理氣體，在除有機污染物和材料保護方面要兼顧
結果：
從設備和工藝方面入手調整試驗后完全達到客戶要求
半導體芯片
半導體芯片等離子處理設備交機調試
半導體芯片及晶圓在設備內處理的圖片
裝芯片的盒子
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